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xDettagli
Descrizione di prodotto
Obiettivi per lo sputtering planare di molibdeno
|
Materiale: |
Acido di potassio |
Forma: |
Piastra |
|
Purezza: |
990,5% |
Densità: |
10.2 g/cm |
|
Colore: |
Argioli |
Standard: |
ASTM B386 |
|
Dimensione: |
Costomizzato |
Superficie: |
Brillante. |
|
Alta Luce: |
99.95% Molibdeno bersaglio di sputtering Obiettivo di sputtering di molibdeno 10,2 g/cm3 Placca di molibdeno 10,2 g/cm3 |
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Descrizione del bersaglio di sputtering di molibdeno
Nell'industria elettronica gli obiettivi di sputtering in molibdeno sono utilizzati principalmente per i display a schermo piatto,elettrodi e materiali di cablaggio per celle solari a pellicola sottile e materiali a strato di barriera per semiconduttoriQuesti sono basati sull'alto punto di fusione del molibdeno, sulla sua elevata conduttività elettrica, sulla sua bassa impedenza specifica, sulla sua buona resistenza alla corrosione e sulle sue buone proprietà ambientali.
Parametri
Gamma di produzione (obiettivi rotanti per lo sputtering in molibdeno)
|
OD ((mm) |
ID ((mm) |
Lunghezza ((mm) |
Prodotto su misura |
|
140-180 mm |
125-135 mm |
100-3300 |
Distanze di produzione (obiettivo di sputtering planare di molibdeno)
|
Rettangolo |
Lunghezza (mm) |
Larghezza (mm) |
Spessore ((mm) |
Prodotto su misura |
|
10 - 3000 |
10 - 800 |
1.0 - 50.8 |
||
|
Circolare |
Diametro (mm) |
Spessore (mm) |
||
|
10 - 1000 |
1.0 - 100 |
Specificità
|
Composizione |
Mo (Mo1, TZM) |
|
Purezza |
99.95% |
|
Densità |
10.2 g/cm3 |
|
Dimensioni del grano |
100 m2 o su richiesta |
|
Roverezza |
Ra≤0,4m |
|
Tolleranza alla piattazza |
< 4um |
| Numero atomico | 42 |
| Numero CAS | 7439-98-7 |
| Massa atomica | 95.94 [g/mol] |
| Punto di fusione | 2620 °C |
| Punto di ebollizione | 4639 °C |
| Densità a 20 °C | 10.22 [g/cm] |
| Struttura cristallina | Cubo centrato sul corpo |
| Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C | 5.210-6[m/mK] |
| Conduttività termica a 20 °C | 142 [W/mK] |
| Calore specifico a 20 °C | 0.25 [J/gK] |
| Conduttività elettrica a 20 °C | 17.9106[S/m] |
| Resistenza elettrica specifica a 20 °C | 0.056 [mm]2)/m] |
Qualità e ispezione
Applicazioni:
Industria solare a film sottile, celle solari, ingegneria delle superfici
Industria del controllo tattile, schermi a schermo piatto
Industria dei semiconduttori, microelettronica, luci automobilistiche e rivestimenti decorativi,
Industria del vetro rivestito (compreso il vetro architettonico, il vetro automobilistico, il vetro ottico e altri film) ecc.
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