• Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    John Wilson
    Hypersolid Metal Tech Co., Ltd è una società molto responsabile che può risolvere efficacemente i nostri problemi. Spero che ci saranno opportunità di lavorare insieme in futuro.
  • Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    Mia
    Questa azienda è la migliore che abbia mai visto. I dipendenti della società sono particolarmente entusiasti e in grado di rispondere e soddisfare le nostre esigenze. Se ci sarà un bisogno in futuro, lavorerò ancora con voi!
Persona di contatto : sabrina.chen
Numero di telefono : +86 15836043611

Alta purezza 99,97% di tungsteno Condizione della superficie del terreno bersaglio per il rivestimento da sputtering

Numero di modello Obiettivo di tungsteno
Quantità di ordine minimo negozii
Prezzo Negitionable
Imballaggi particolari Scatole standard per esportazione
Tempi di consegna 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto
Termini di pagamento L/C, D/A, D/P, T/T
Capacità di alimentazione 10000sets/month

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Dettagli
Nome Obiettivo di tungsteno Forma Rotondo
Materiale TUNGSTENO Composizione chimica 99,97%
Circostanza di superficie lucidatura lavorata, al suolo, di lucidatura o dello specchio Applicazione Rivestimento a spruzzo
Evidenziare

Obiettivo di tungsteno macinato

,

Target di tungsteno con rivestimento da sputtering

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Descrizione di prodotto

Alta purezza 99,97% di tungsteno bersaglio per rivestimento da sputtering

 

Introduzione


1. Il bersaglio di sputtering di tungsteno adotta le tecniche meglio dimostrate, tra cui fluorescenza a raggi X (XRF), spettrometria di massa di scarica di luce (GDMS) e plasma accoppiato induttivamente (ICP);
2Il tungsteno ottenuto da Achemetal è dotato di elevata purezza fino al 99,97%, densità 18,8-19 g/cm3, struttura organizzativa omogenea e grana fine;
3Il nostro obiettivo di sputtering di tungsteno è stato approvato dalla ASTM B 760-2007 e GB 3875-2006.

 

Parametro

 

OD ((mm)

ID ((mm)

Lunghezza ((mm)

Prodotto su misura

140-300

120-280

100-3300

 

 

Numero di modello

W1

Forma

personalizzato

Composizione chimica

990,95% W

 

Caratteristica

 

1. Alta densità
2. Alta resistenza all'usura
3. Alta conduttività termica con basso coefficiente di espansione termica

 

Specificità

 

Numero atomico

74

Numero CAS

7440-33-7

Massa atomica

1830,84 [g/mol]

Punto di fusione

3420 °C

Punto di ebollizione

5555 °C

Densità a 20 °C

19.25 [g/cm3]

Struttura cristallina

Cubo centrato sul corpo

Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C

4.410-6[m/mK]

Conduttività termica a 20 °C

164 [W/mK]

Calore specifico a 20 °C

0.13 [J/gK]

Conduttività elettrica a 20 °C

18.2106[S/m]

Resistenza elettrica specifica a 20 °C

0.055 [(mm2)/m]

 

Applicazioni

 

semiconduttore

Deposito di vapore chimico (CVD)

Display di deposizione fisica dei vapori (PVD)