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Alta purezza 99,97% di tungsteno Condizione della superficie del terreno bersaglio per il rivestimento da sputtering

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xNome | Obiettivo di tungsteno | Forma | Rotondo |
---|---|---|---|
Materiale | TUNGSTENO | Composizione chimica | 99,97% |
Circostanza di superficie | lucidatura lavorata, al suolo, di lucidatura o dello specchio | Applicazione | Rivestimento a spruzzo |
Evidenziare | Obiettivo di tungsteno macinato,Target di tungsteno con rivestimento da sputtering |
Alta purezza 99,97% di tungsteno bersaglio per rivestimento da sputtering
Introduzione
1. Il bersaglio di sputtering di tungsteno adotta le tecniche meglio dimostrate, tra cui fluorescenza a raggi X (XRF), spettrometria di massa di scarica di luce (GDMS) e plasma accoppiato induttivamente (ICP);
2Il tungsteno ottenuto da Achemetal è dotato di elevata purezza fino al 99,97%, densità 18,8-19 g/cm3, struttura organizzativa omogenea e grana fine;
3Il nostro obiettivo di sputtering di tungsteno è stato approvato dalla ASTM B 760-2007 e GB 3875-2006.
Parametro
OD ((mm) |
ID ((mm) |
Lunghezza ((mm) |
Prodotto su misura |
140-300 |
120-280 |
100-3300 |
Numero di modello |
W1 |
|||
Forma |
personalizzato |
|||
Composizione chimica |
990,95% W |
Caratteristica
1. Alta densità
2. Alta resistenza all'usura
3. Alta conduttività termica con basso coefficiente di espansione termica
Specificità
Numero atomico |
74 |
Numero CAS |
7440-33-7 |
Massa atomica |
1830,84 [g/mol] |
Punto di fusione |
3420 °C |
Punto di ebollizione |
5555 °C |
Densità a 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
Struttura cristallina |
Cubo centrato sul corpo |
Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C |
4.410-6[m/mK] |
Conduttività termica a 20 °C |
164 [W/mK] |
Calore specifico a 20 °C |
0.13 [J/gK] |
Conduttività elettrica a 20 °C |
18.2106[S/m] |
Resistenza elettrica specifica a 20 °C |
0.055 [(mm2)/m] |
Applicazioni
semiconduttore
Deposito di vapore chimico (CVD)
Display di deposizione fisica dei vapori (PVD)