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Alta purezza 99,97% di tungsteno Condizione della superficie del terreno bersaglio per il rivestimento da sputtering
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x| Nome | Obiettivo di tungsteno | Forma | Rotondo |
|---|---|---|---|
| Materiale | TUNGSTENO | Composizione chimica | 99,97% |
| Circostanza di superficie | lucidatura lavorata, al suolo, di lucidatura o dello specchio | Applicazione | Rivestimento a spruzzo |
| Evidenziare | Obiettivo di tungsteno macinato,Target di tungsteno con rivestimento da sputtering |
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Alta purezza 99,97% di tungsteno bersaglio per rivestimento da sputtering
Introduzione
1. Il bersaglio di sputtering di tungsteno adotta le tecniche meglio dimostrate, tra cui fluorescenza a raggi X (XRF), spettrometria di massa di scarica di luce (GDMS) e plasma accoppiato induttivamente (ICP);
2Il tungsteno ottenuto da Achemetal è dotato di elevata purezza fino al 99,97%, densità 18,8-19 g/cm3, struttura organizzativa omogenea e grana fine;
3Il nostro obiettivo di sputtering di tungsteno è stato approvato dalla ASTM B 760-2007 e GB 3875-2006.
Parametro
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OD ((mm) |
ID ((mm) |
Lunghezza ((mm) |
Prodotto su misura |
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140-300 |
120-280 |
100-3300 |
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Numero di modello |
W1 |
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Forma |
personalizzato |
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Composizione chimica |
990,95% W |
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Caratteristica
1. Alta densità
2. Alta resistenza all'usura
3. Alta conduttività termica con basso coefficiente di espansione termica
Specificità
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Numero atomico |
74 |
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Numero CAS |
7440-33-7 |
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Massa atomica |
1830,84 [g/mol] |
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Punto di fusione |
3420 °C |
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Punto di ebollizione |
5555 °C |
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Densità a 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
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Struttura cristallina |
Cubo centrato sul corpo |
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Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C |
4.410-6[m/mK] |
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Conduttività termica a 20 °C |
164 [W/mK] |
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Calore specifico a 20 °C |
0.13 [J/gK] |
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Conduttività elettrica a 20 °C |
18.2106[S/m] |
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Resistenza elettrica specifica a 20 °C |
0.055 [(mm2)/m] |
Applicazioni
semiconduttore
Deposito di vapore chimico (CVD)
Display di deposizione fisica dei vapori (PVD)

