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John WilsonHypersolid Metal Tech Co., Ltd è una società molto responsabile che può risolvere efficacemente i nostri problemi. Spero che ci saranno opportunità di lavorare insieme in futuro. -
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Persona di contatto :
sabrina.chen
Numero di telefono :
+86 15836043611
W1 Prodotti a tungsteno bersaglio di sputtering di tungsteno a reticolo rotabile
| Numero di modello | Tungsteno che farfuglia obiettivo |
|---|---|
| Quantità di ordine minimo | negozii |
| Prezzo | Negitionable |
| Imballaggi particolari | Scatole standard per esportazione |
| Tempi di consegna | 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto |
| Termini di pagamento | L/C, D/A, D/P, T/T |
| Capacità di alimentazione | 10000sets/month |
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xDettagli
| Nome | Tungsteno che farfuglia obiettivo | Forma | Rotondo |
|---|---|---|---|
| Materiale | TUNGSTENO | Composizione chimica | W 99,95% min. |
| Circostanza di superficie | lucidatura lavorata, al suolo, di lucidatura o dello specchio | Applicazione | emulsione sottile resistente all'uso e resistente alla corrosione |
| Evidenziare | Prodotti di tungsteno a reticolo,Obiettivo di sputtering di tungsteno con reticolo,Obiettivo per lo sputtering di tungsteno rotabile |
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Descrizione di prodotto
Obiettivo di sputtering rotabile a tungsteno
Gli obiettivi di tungsteno sono utilizzati principalmente nell'aerospaziale, nella fusione di terre rare, nelle fonti di luce elettrica, nelle attrezzature chimiche, nelle attrezzature mediche, nei macchinari metallurgici, nelle attrezzature di fusione e nel petrolio, ecc.
Parametro
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OD ((mm) |
ID ((mm) |
Lunghezza ((mm) |
Prodotto su misura |
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140-300 |
120-280 |
100-3300 |
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Numero di modello |
W1 |
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Forma |
personalizzato |
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|
Composizione chimica |
990,95% W |
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Caratteristica
1.Alta densità
2.Alto resistenza all'usura
3.Alta conduttività termica con basso coefficiente di espansione termica
4.Alta capacità di ammortizzazione delle vibrazioni e elevato modulo di Young
5.Alta resistenza all'ossidazione e alla corrosione
Specificità
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Numero atomico |
74 |
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Numero CAS |
7440-33-7 |
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Massa atomica |
1830,84 [g/mol] |
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Punto di fusione |
3420 °C |
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Punto di ebollizione |
5555 °C |
|
Densità a 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
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Struttura cristallina |
Cubo centrato sul corpo |
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Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C |
4.410-6[m/mK] |
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Conduttività termica a 20 °C |
164 [W/mK] |
|
Calore specifico a 20 °C |
0.13 [J/gK] |
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Conduttività elettrica a 20 °C |
18.2106[S/m] |
|
Resistenza elettrica specifica a 20 °C |
0.055 [(mm2)/m] |
Applicazioni
semiconduttore
Deposito di vapore chimico (CVD)
Display di deposizione fisica dei vapori (PVD)
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