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John WilsonHypersolid Metal Tech Co., Ltd è una società molto responsabile che può risolvere efficacemente i nostri problemi. Spero che ci saranno opportunità di lavorare insieme in futuro.
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MiaQuesta azienda è la migliore che abbia mai visto. I dipendenti della società sono particolarmente entusiasti e in grado di rispondere e soddisfare le nostre esigenze. Se ci sarà un bisogno in futuro, lavorerò ancora con voi!
Obiettivo di sputtering di molibdeno brillante e rotabile 99,5%
Numero di modello | Molibdeno obiettivo di sputtering rotabile |
---|---|
Quantità di ordine minimo | negozii |
Prezzo | Negitionable |
Imballaggi particolari | Scatole standard per esportazione |
Tempi di consegna | 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto |
Termini di pagamento | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacità di alimentazione | 10000sets/month |

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xEvidenziare | Obiettivo di sputtering di molibdeno luminoso,99Obiettivo di sputtering per molibdeno 0 |
---|
Molibdeno obiettivo di sputtering rotabile
Materiale: |
Acido di potassio |
Forma: |
Piastra |
Purezza: |
990,5% |
Densità: |
10.2 g/cm |
Colore: |
Argioli |
Standard: |
ASTM B386 |
Dimensione: |
Costomizzato |
Superficie: |
Brillante. |
Alta Luce: |
99.95% Molibdeno bersaglio di sputtering Obiettivo di sputtering di molibdeno 10,2 g/cm3 Placca di molibdeno 10,2 g/cm3 |
Descrizione del bersaglio di sputtering di molibdeno
Nell'industria elettronica gli obiettivi di sputtering in molibdeno sono utilizzati principalmente per i display a schermo piatto,elettrodi e materiali di cablaggio per celle solari a pellicola sottile e materiali a strato di barriera per semiconduttoriQuesti sono basati sull'alto punto di fusione del molibdeno, sulla sua elevata conduttività elettrica, sulla sua bassa impedenza specifica, sulla sua buona resistenza alla corrosione e sulle sue buone proprietà ambientali.
Parametri
Gamma di produzione (obiettivi rotanti per lo sputtering in molibdeno)
OD ((mm) |
ID ((mm) |
Lunghezza ((mm) |
Prodotto su misura |
140-180 mm |
125-135 mm |
100-3300 |
Distanze di produzione (obiettivo di sputtering planare di molibdeno)
Rettangolo |
Lunghezza (mm) |
Larghezza (mm) |
Spessore ((mm) |
Prodotto su misura |
10 - 3000 |
10 - 800 |
1.0 - 50.8 |
||
Circolare |
Diametro (mm) |
|
Spessore (mm) |
|
10 - 1000 |
|
1.0 - 100 |
Specificità
Composizione |
Mo (Mo1, TZM) |
Purezza |
99.95% |
Densità |
10.2 g/cm3 |
Dimensioni del grano |
100 m2 o su richiesta |
Roverezza |
Ra≤0,4m |
Tolleranza alla piattazza |
< 4um |
Nota: tutte le specifiche possono essere personalizzate in base alle esigenze dei clienti.
Numero atomico |
42 |
Numero CAS |
7439-98-7 |
Massa atomica |
95.94 [g/mol] |
Punto di fusione |
2620 °C |
Punto di ebollizione |
4639 °C |
Densità a 20 °C |
10.22 [g/cm] |
Struttura cristallina |
Cubo centrato sul corpo |
Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C |
5.210-6[m/mK] |
Conduttività termica a 20 °C |
142 [W/mK] |
Calore specifico a 20 °C |
0.25 [J/gK] |
Conduttività elettrica a 20 °C |
17.9106[S/m] |
Resistenza elettrica specifica a 20 °C |
0.056 [(mm2)/m] |
Applicazioni:
Industria solare a film sottile, celle solari, ingegneria delle superfici
Industria del controllo tattile, schermi a schermo piatto
Industria dei semiconduttori, microelettronica, luci automobilistiche e rivestimenti decorativi,
Industria del vetro rivestito (compreso il vetro architettonico, il vetro automobilistico, il vetro ottico e altri film) ecc.