• Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    John Wilson
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    Mia
    Questa azienda è la migliore che abbia mai visto. I dipendenti della società sono particolarmente entusiasti e in grado di rispondere e soddisfare le nostre esigenze. Se ci sarà un bisogno in futuro, lavorerò ancora con voi!
Persona di contatto : sabrina.chen
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Placca bersaglio di sputtering di molibdeno planare ad alta purezza colore argento

Numero di modello Obiettivi per lo sputtering planare di molibdeno
Quantità di ordine minimo negozii
Prezzo Negitionable
Imballaggi particolari Scatole standard per esportazione
Tempi di consegna 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto
Termini di pagamento L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Capacità di alimentazione 10000sets/month

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Dettagli
nome Obiettivi per lo sputtering planare di molibdeno Caratteristica Elevata purezza
Forma Piastra Composizione chimica 99.95% Min Mo
Il logo Logo personalizzato Applicazione schermi LCD e touch screen;
Evidenziare

Obiettivo di sputtering di molibdeno planare

,

Obiettivo per lo sputtering di argento molibdeno

,

Sputtering in lamiera di molibdeno

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Descrizione di prodotto

Obiettivi per lo sputtering planare di molibdeno ad alta purezza

 

Descrizione del bersaglio di sputtering di molibdeno

 

Nell'industria elettronica gli obiettivi di sputtering in molibdeno sono utilizzati principalmente per i display a schermo piatto,elettrodi e materiali di cablaggio per celle solari a pellicola sottile e materiali a strato di barriera per semiconduttoriQuesti sono basati sull'alto punto di fusione del molibdeno, sulla sua elevata conduttività elettrica, sulla sua bassa impedenza specifica, sulla sua buona resistenza alla corrosione e sulle sue buone proprietà ambientali.

 

Parametri degli obiettivi di sputtering planare di molibdeno

 

Materiale:

Acido di potassio

Forma:

Piastra

Purezza:

990,5%

Densità:

10.2 g/cm

Colore:

Argioli

Standard:

ASTM B386

Dimensione:

Costomizzato

Superficie:

Brillante.

Alta Luce:

99.95% Molibdeno bersaglio di sputtering

Obiettivo di sputtering di molibdeno 10,2 g/cm3

Placca di molibdeno 10,2 g/cm3

 

OD ((mm)

ID ((mm)

Lunghezza ((mm)

Prodotto su misura

140-180 mm

125-135 mm

100-3300

Distanze di produzione (obiettivo di sputtering planare di molibdeno)

Rettangolo

Lunghezza (mm)

Larghezza (mm)

Spessore ((mm)

Prodotto su misura

10 - 3000

10 - 800

1.0 - 50.8

Circolare

Diametro (mm)

 

Spessore (mm)

10 - 1000

 

1.0 - 100

Specificità

 

Composizione

Mo (Mo1, TZM)

Purezza

99.95%

Densità

10.2 g/cm3

Dimensioni del grano

100 m2 o su richiesta

Roverezza

Ra≤0,4m

Tolleranza alla piattazza

< 4um

Numero atomico

42

Numero CAS

7439-98-7

Massa atomica

95.94 [g/mol]

Punto di fusione

2620 °C

Punto di ebollizione

4639 °C

Densità a 20 °C

10.22 [g/cm]

Struttura cristallina

Cubo centrato sul corpo

Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C

5.210-6[m/mK]

Conduttività termica a 20 °C

142 [W/mK]

Calore specifico a 20 °C

0.25 [J/gK]

Conduttività elettrica a 20 °C

17.9106[S/m]

Resistenza elettrica specifica a 20 °C

0.056 [(mm2)/m]

 

Applicazioni:

 

Industria solare a film sottile, celle solari, ingegneria delle superfici

Industria del controllo tattile, schermi a schermo piatto

Industria dei semiconduttori, microelettronica, luci automobilistiche e rivestimenti decorativi,

Industria del vetro rivestito (compreso il vetro architettonico, il vetro automobilistico, il vetro ottico e altri film) ecc.