• Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    John Wilson
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  • Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    Mia
    Questa azienda è la migliore che abbia mai visto. I dipendenti della società sono particolarmente entusiasti e in grado di rispondere e soddisfare le nostre esigenze. Se ci sarà un bisogno in futuro, lavorerò ancora con voi!
Persona di contatto : sabrina.chen
Numero di telefono : +86 15836043611

W bersaglio di tungsteno fusione di terre rare Titanio bersaglio di tungsteno sputtering

Numero di modello Tungsteno che farfuglia obiettivo
Quantità di ordine minimo negozii
Prezzo Negitionable
Imballaggi particolari Scatole standard per esportazione
Tempi di consegna 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto
Termini di pagamento L/C, D/A, D/P, T/T
Capacità di alimentazione 10000sets/month

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Dettagli
nome Obiettivi per lo sputtering di tungsteno Forma rotondo
Materiale W Tungsteno Composizione chimica 99.95% min.
Circostanza di superficie lucidatura lavorata, al suolo, di lucidatura o dello specchio Applicazione Aerospaziale, fusione di terre rare
Evidenziare

W bersaglio di tungsteno

,

W bersaglio di sputtering di titanio e tungsteno

,

Obiettivo di fusione del tungsteno delle terre rare

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Descrizione di prodotto

W bersagli di sputtering di tungsteno Aerospace, fusione di terre rare

 

Obiettivi di sputtering di tungsteno ampiamente utilizzati nell'aerospaziale, nella fusione di terre rare, nella fonte di luce elettrica, nelle attrezzature chimiche, nelle attrezzature mediche, nelle macchine metallurgiche, nelle attrezzature di fusione, nel petrolio, ecc.

 

Parametro

 

OD ((mm)

ID ((mm)

Lunghezza ((mm)

Prodotto su misura

140-300

120-280

100-3300

 

 

Numero di modello

W1

Forma

personalizzato

Composizione chimica

990,95% W

 

Caratteristica

 

(1) Superficie liscia, senza pori, sporosità e altre imperfezioni, senza marchi di taglio
(3) Purezza sanguigna di livello imbattibile
(4) Alta duttilità
(5) Marcatura omogenea micro microtrucultureaser per il vostro articolo speciale con nome, marca, dimensione di purezza, ecc.
(7)Ogni singolo bersaglio di sputtering, dal numero dei materiali in polvere, ai lavoratori di miscelazione, ai gas di uscita e al tempo di HIP, alla persona di lavorazione e ai dettagli dell'imballaggio, sono fatti da noi stessi.

 

Specificità

 

Numero atomico

74

Numero CAS

7440-33-7

Massa atomica

1830,84 [g/mol]

Punto di fusione

3420 °C

Punto di ebollizione

5555 °C

Densità a 20 °C

19.25 [g/cm3]

Struttura cristallina

Cubo centrato sul corpo

Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C

4.410-6[m/mK]

Conduttività termica a 20 °C

164 [W/mK]

Calore specifico a 20 °C

0.13 [J/gK]

Conduttività elettrica a 20 °C

18.2106[S/m]

Resistenza elettrica specifica a 20 °C

0.055 [(mm2)/m]

 

Applicazioni

 

semiconduttore

Deposito di vapore chimico (CVD)

Display di deposizione fisica dei vapori (PVD)