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John WilsonHypersolid Metal Tech Co., Ltd è una società molto responsabile che può risolvere efficacemente i nostri problemi. Spero che ci saranno opportunità di lavorare insieme in futuro.
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MiaQuesta azienda è la migliore che abbia mai visto. I dipendenti della società sono particolarmente entusiasti e in grado di rispondere e soddisfare le nostre esigenze. Se ci sarà un bisogno in futuro, lavorerò ancora con voi!
W bersaglio di tungsteno fusione di terre rare Titanio bersaglio di tungsteno sputtering
Numero di modello | Tungsteno che farfuglia obiettivo |
---|---|
Quantità di ordine minimo | negozii |
Prezzo | Negitionable |
Imballaggi particolari | Scatole standard per esportazione |
Tempi di consegna | 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto |
Termini di pagamento | L/C, D/A, D/P, T/T |
Capacità di alimentazione | 10000sets/month |

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xnome | Obiettivi per lo sputtering di tungsteno | Forma | rotondo |
---|---|---|---|
Materiale | W Tungsteno | Composizione chimica | 99.95% min. |
Circostanza di superficie | lucidatura lavorata, al suolo, di lucidatura o dello specchio | Applicazione | Aerospaziale, fusione di terre rare |
Evidenziare | W bersaglio di tungsteno,W bersaglio di sputtering di titanio e tungsteno,Obiettivo di fusione del tungsteno delle terre rare |
W bersagli di sputtering di tungsteno Aerospace, fusione di terre rare
Obiettivi di sputtering di tungsteno ampiamente utilizzati nell'aerospaziale, nella fusione di terre rare, nella fonte di luce elettrica, nelle attrezzature chimiche, nelle attrezzature mediche, nelle macchine metallurgiche, nelle attrezzature di fusione, nel petrolio, ecc.
Parametro
OD ((mm) |
ID ((mm) |
Lunghezza ((mm) |
Prodotto su misura |
140-300 |
120-280 |
100-3300 |
Numero di modello |
W1 |
|||
Forma |
personalizzato |
|||
Composizione chimica |
990,95% W |
Caratteristica
Specificità
Numero atomico |
74 |
Numero CAS |
7440-33-7 |
Massa atomica |
1830,84 [g/mol] |
Punto di fusione |
3420 °C |
Punto di ebollizione |
5555 °C |
Densità a 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
Struttura cristallina |
Cubo centrato sul corpo |
Coefficiente di espansione termica lineare a 20 °C |
4.410-6[m/mK] |
Conduttività termica a 20 °C |
164 [W/mK] |
Calore specifico a 20 °C |
0.13 [J/gK] |
Conduttività elettrica a 20 °C |
18.2106[S/m] |
Resistenza elettrica specifica a 20 °C |
0.055 [(mm2)/m] |
Applicazioni
semiconduttore
Deposito di vapore chimico (CVD)
Display di deposizione fisica dei vapori (PVD)