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John WilsonHypersolid Metal Tech Co., Ltd è una società molto responsabile che può risolvere efficacemente i nostri problemi. Spero che ci saranno opportunità di lavorare insieme in futuro.
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MiaQuesta azienda è la migliore che abbia mai visto. I dipendenti della società sono particolarmente entusiasti e in grado di rispondere e soddisfare le nostre esigenze. Se ci sarà un bisogno in futuro, lavorerò ancora con voi!
Fabbrica di dischi di molibdeno Moly Disc rivestimento sottovuoto bersaglio di sputtering di molibdeno Alta resistenza alle temperature
Luogo di origine | Cina |
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Marca | Hypersolid Metal |
Quantità di ordine minimo | Negoziare |
Prezzo | Negitionable |
Imballaggi particolari | Cartoni standard di esportazione |
Tempi di consegna | 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto |
Termini di pagamento | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacità di alimentazione | 10000 serie/mese |

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xPurezza di Mo | 99.95% | gradi | Mo1 /Mo2 |
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Grado del materiale | Mo-1, Mo-2, TZM | Materiale | molibdeno |
Punto di ebollizione | 4,639°C | Composizione | Mo-± 0,08% Zr, ± 0,5% Ti, ± 0,03% C |
L'allungamento | < 21% | Diametro | 10~100 mm |
Evidenziare | Dischi di molibdeno ad alta temperatura,Disco di molibdeno bersaglio di sputazione,Dischi di molibdeno con rivestimento a vuoto |
1,Descrizione:
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Materiale: Molibdeno I bersagli per lo sputtering sono realizzati in molibdeno, un metallo refrattaria noto per il suo elevato punto di fusione, eccellente conduttività termica ed elettrica e resistenza alla corrosione.Il molibdeno è ampiamente utilizzato nelle applicazioni di sputtering.
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Forma e struttura: i bersagli di sputtering di molibdeno sono in genere a forma di disco o rettangolare.I bersagli possono essere solidi o attaccati a una piastra di supporto per un supporto aggiuntivo.
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Alta purezza: gli obiettivi di sputtering di molibdeno sono disponibili in gradi di alta purezza, garantendo impurezze minime che potrebbero influenzare la qualità dei film sottili.L'alta purezza è fondamentale per le applicazioni nella produzione di semiconduttori, rivestimenti ottici e ricerca sui film sottili.
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Performance di sputtering: gli obiettivi di sputtering al molibdeno presentano eccellenti prestazioni di sputtering, consentendo la deposizione di film sottili di alta qualità.erosione uniforme, e elevati tassi di deposizione, con conseguente spessore della pellicola preciso e coerente.
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Conduttività termica ed elettrica: gli obiettivi di sputtering di molibdeno hanno un'elevata conduttività termica ed elettrica, facilitando un'efficiente dissipazione del calore durante il processo di sputtering.Questo aiuta a mantenere l'integrità del bersaglio e garantisce prestazioni di sputtering stabili.
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Resistenza alla corrosione: gli obiettivi di sputtering di molibdeno possiedono una buona resistenza alla corrosione, rendendoli adatti per l'uso in vari ambienti e processi di sputtering.Possono resistere ai gas reattivi e alle condizioni plasmatiche incontrate durante lo sputtering.
2Specificità:
Proprietà fisica | Descrizione |
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Materiale | Acido di potassio |
Purezza | Disponibili gradi di purezza elevati |
Forma | di larghezza uguale o superiore a 50 mm |
Punto di fusione | 2,623°C (4,753°F) |
Densità | 10.2 - 10,3 g/cm3 |
Conduttività termica | 138 - 142 W/m·K |
Conduttività elettrica | 25 - 30% IACS (International Annealed Copper Standard) |
Resistenza alla corrosione | Buona resistenza alla corrosione |