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99.95% Prodotti di tungsteno puro 750 MPa Anello di tungsteno per semiconduttori

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xnome | Anello del tungsteno | Peso molecolare | 183,85 |
---|---|---|---|
Punto di fusione | °C 3410 | Densità | 19,3 g/cm3 |
Applicazione | semiconduttore, applicazione a spruzzo chimica (CVD) | Resistenza alla trazione | MPa 750 |
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Introduzione
Grado: W 1
Purezza: > 99,95%
Densità: 17,1 g / cm 3-19,3 g / cm 3
Dimensione: diametro > 10 mm * spessore > 0,1 mm
Tecnica di lavorazione: laminata a freddo/macchinata
Superficie: superficie lucidata/superficie lavorata
Colore: metallo
Condizione: ricottura sotto vuoto
Punto di fusione: 3410 gradi
Punto di ebollizione: 5927 gradi
Tempo di consegna: 3-10 giorni
Parametro
Peso molecolare |
183.85 |
---|---|
Apparizione |
Di colore argenteo |
Punto di fusione |
3410 °C |
Punto di ebollizione |
5900 °C |
Densità |
19.3 g/cm3 |
Solubilità in H2O |
N/A |
Resistenza elettrica |
50,65 μΩ ·m (27 °C) |
Electronegatività |
1.7 Paulings |
Calore di fusione |
350,3 kJ/mol |
Calore di vaporizzazione |
8060,7 kJ/mol |
Rapporto di Poisson |
0.28 |
Calore specifico |
0.133 J/g mol (20 °C) |
Resistenza alla trazione |
750 MPa |
Conduttività termica |
10,73 W/m K |
Espansione termica |
(25 °C) 4,5 μm·m-1·K-1 |
Durezza Vickers |
3430 MPa |
Modulo di Young |
411 GPa |
Applicazioni degli anelli di tungsteno
1. ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nella deposizione chimica di vapore (CVD) e nella deposizione fisica di vapore (PVD) e nelle applicazioni ottiche;
2. utilizzati nella produzione di elettrodi, elementi di riscaldamento, scudi termici, vassoi di sinterizzazione, vasche di sinterizzazione, fogli di impilazione, piastre base, bersagli di sputtering, crogioli in applicazioni elettroniche e sotto vuoto.
3. possono essere utilizzati come contatti nei motori dei veicoli.