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John WilsonHypersolid Metal Tech Co., Ltd è una società molto responsabile che può risolvere efficacemente i nostri problemi. Spero che ci saranno opportunità di lavorare insieme in futuro.
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MiaQuesta azienda è la migliore che abbia mai visto. I dipendenti della società sono particolarmente entusiasti e in grado di rispondere e soddisfare le nostre esigenze. Se ci sarà un bisogno in futuro, lavorerò ancora con voi!
Alta purezza 99,95% di tungsteno Sputtering Target Sandblasting
Luogo di origine | CINESE |
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Marca | Hypersolid Metal |
Quantità di ordine minimo | Negoziare |
Prezzo | Negitionable |
Imballaggi particolari | Scatole standard per esportazione |
Tempi di consegna | 30 giorni dopo aver ricevuto l'acconto |
Termini di pagamento | L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram |
Capacità di alimentazione | 10000sets/month |

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xNumero atomico | 74 | Peso atomico | 183.84 |
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Punto di ebollizione | 5927°c | Elettronegatività | 2.36 |
Materiale | TUNGSTENO | Punto di fusione | 3410°c |
Stato di ossidazione | 6, 5, 4, 3, 2, 0, -1, -2, -3, -4, -5, -6 | Trattamento superficiale | Polacco, sabbiare, anodizzare, ecc. |
Evidenziare | bersaglio per lo sputtering di tungsteno ad alta purezza,Obiettivo di sputtering di tungsteno per sabbiatura,990 |
1,Descrizione:
Materiale: i materiali bersaglio del tungsteno sono in genere realizzati con tungsteno o leghe di tungsteno di alta purezza, appositamente progettati per l'uso in processi di deposizione fisica di vapore (PVD).
Punto di fusione elevato: il tungsteno ha un punto di fusione eccezionalmente elevato di circa 3.422 gradi Celsius (6.191 gradi Fahrenheit),con un'ampiezza massima non superiore a 20 mm,.
Densità: i materiali bersaglio del tungsteno hanno una densità elevata, in genere compresa tra 17,8 e 19,3 grammi per centimetro cubo (g/cm3), garantendo un elevato tasso di deposizione e un utilizzo efficiente del materiale.
2,Specificità:
Materiale | Altre leghe di tungsteno di alta purezza |
Punto di fusione | Circa 3.422 gradi Celsius |
Densità | 17.8 - 19,3 grammi per centimetro cubo (g/cm3) |
Conduttività termica | Eccellente conduttività termica |
Tasso di sputtering | Relativamente bassa velocità di sputtering, perdita minima di materiale |
Purezza | Alti livelli di purezza, minima impurità |
Uniformità | Dimensioni precise e uniformità per una deposizione consistente del film |